000 02044cam0 22004691ia4500
001 BY-HR0000-br594505
005 20211216140547.0
010 ^d1200р.
100 ^a20120213d2009 m y0rusy50 ca
101 0 ^arus
102 ^aBY
109 ^aac
^aaa
200 1 ^aФормирование функциональных слоев пошаговым и двойным легированием для интегральных микросхем с элементами субмикронных размеров
^eавтореферат диссертации
^e05.27.01
^fПлебанович Владимир Иванович
210 ^aМн.
^d2009
215 ^a22с.
675 ^a537.311.322;621.396.6.049
^v4
^zrus
686 ^a05.27.01)
^2nsnrrb
686 ^a47.33.31
^v4
^2rugasnti
610 0 ^aМИКРОЭЛЕКТРОНИКА
610 0 ^aИОННАЯ ИМПЛАНТАЦИЯ
610 0 ^aДИФФУЗИИ
610 0 ^aЭЛЕКТРИЧЕСКИЕ ПАРАМЕТРЫ
610 0 ^aЭЛЕКТРОННАЯ МИКРОСКОПИЯ
610 0 ^aРЕНТГЕНОСТРУКТУРНЫЙ АНАЛИЗ
610 0 ^aЛЕГИРОВАНИЕ
610 0 ^aИНТЕГРАЛЬНЫЕ МИКРОСХЕМЫ
610 0 ^aСУБМИКРОННЫЕ ЧАСТИЦЫ
610 0 ^aМIКРАЭЛЕКТРОНIКА
610 0 ^aIОННАЯ IМПЛАНТАЦЫЯ
610 0 ^aЭЛЕКТРЫЧНЫЯ ПАРАМЕТРЫ
610 0 ^aЭЛЕКТРОННАЯ МIКРАСКАПIЯ
610 0 ^aРЭНТГЕНАСТРУКТУРНЫ АНАЛIЗ
610 0 ^aЛЕГIРАВАННЕ
610 0 ^aIНТЭГРАЛЬНЫЯ МIКРАСХЕМЫ
615 ^3BY-SEK-ar1826174
^aБелорусский национальный документ
700 1 ^aПлебанович
^bВ. И.
^gВладимир Иванович
801 0 ^aBY
^bBY-HR0000
^c20120213
^gpsbo
801 1 ^aBY
^bBY-HR0000
^c20170521
^gpsbo
690 ^a5
^2Base
^9BY-HR0000
^xRSEK
899 ^aBY-HR0000
^iП 38
^h