000 01867cam0 22004571ia4500
001 BY-HR0000-br85781
005 20211216130111.0
010 ^d200р.
100 ^a20120213d2001 m y0rusy50 ca
101 0 ^arus
102 ^aBY
109 ^aac
^aaa
200 1 ^aМногомерное моделирование имплантационных и твердофазных диффузионных процессов в технологии микроэлектроники методом молекулярной динамики и в континуальном приближении
^eАвтореф. диссерт.
^e05.27.01
^fНелаев,Владислав Викторович.
210 ^aМн.
^d2001
675 ^a621.382;548.4;53.072:681.3
^v4
^zrus
686 ^a05.27.01)
^2nsnrrb
686 ^a47.33
^v4
^2rugasnti
610 0 ^aФИЗИКО-МАТЕМАТИЧЕСКИЕ МЕТОДЫ
610 0 ^aМОДЕЛИРОВАНИЕ
610 0 ^aТЕХНОЛОГИЯ
610 0 ^aИМПЛАНТАЦИЯ
610 0 ^aОКИСЛЕНИЕ
610 0 ^aДИФФУЗИЯ
610 0 ^aИНТЕРНЕТ
610 0 ^aМИКРОЭЛЕКТРОНИКА
610 0 ^aФIЗIКА-МАТЭМАТЫЧНЫЯ МЕТАДЫ
610 0 ^aМАДЭЛIРАВАННЕ
610 0 ^aТЭХНАЛОГIЯ
610 0 ^aIМПЛАНТАЦЫЯ
610 0 ^aАКIСЛЕННЕ
610 0 ^aДЫФУЗIЯ
610 0 ^aIНТЭРНЕТ
610 0 ^aМIКРАЭЛЕКТРОНIКА
615 ^3BY-SEK-ar1826174
^aБелорусский национальный документ
700 1 ^aНелаев
^bВ. В.
^gВладислав Викторович
801 0 ^aBY
^bBY-HR0000
^c20120213
^gpsbo
801 1 ^aBY
^bBY-HR0000
^c20170521
^gpsbo
690 ^a5
^2Base
^9BY-HR0000
^xRSEK
899 ^aBY-HR0000
^h