Фоторезисты-диффузанты в полупроводниковой технологии / АН СССР, Физ.-техн. ин-т ; под ред. А.В.Ельцова
Автор(ы): Ельцов, А. В.Язык документа: Русский.Страна публикации: RU.Издательство: Л. : Наука, 1984Физическая характеристика: 118с.ББК: 32.852 ; 47.09.29 ; 47.13.11
Зарегистрируйтесь, чтобы добавлять метки.
Нет никаких комментариев для этого документа.